中国的光刻机技术,中国光刻机迎重大突破

国产光刻机蓄势待发 2023-11-17 09:58 480 墨鱼

国产光刻机蓄势待发

中国的光刻机技术,中国光刻机迎重大突破

尤其是在高端的极紫外光(EUV)领域，ASML处于完全垄断地位，其一台EUV光刻机售价高达1亿欧元，而EUV光刻机是实现5nm甚至是更为先进的制程工艺的关键。我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm

近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破，将有助于中国的芯片制造技术再前进一大步。业界都清楚制程技术：中国的一些芯片制造企业在制程技术方面取得了一些进展，开始采用更先进的制程技术，这也促使对光刻机技术的需求增加。国际竞争：光刻机领域是一个高度竞争的领域，目前

到上个世纪九十年代，我国光刻机光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML和台积电在线如此强势的关键。直到二十一世纪，中国才刚刚开始启动193纳米ArF自从我国在光刻机方面的技术取得了一定成效的进步之后，便出现了许多外媒，鼓吹中国的光刻机技术弯道超车，取代ASML，替代台积电等话语。这些言论看似在吹捧我国在光刻机方面的技术发展，实则是在

中国光刻机和荷兰光刻机有什么区别芯片是半导体中的积分器，目前芯片的利用率很高，要想在技术领域有所突破，就必须在芯片领域发展。在芯片制造中，最受关注的是光刻机的发展。到目前为至于比ArF光刻胶更先进的、配合极紫外光刻机(EUV)的EUV光刻胶，2018年中国科学院的新闻曾称，由中科院化学所、理化所与北京科华微电子材料有限公司联合承担的02专项“极紫外光刻胶材

后台-插件-广告管理-内容页尾部广告（手机）

标签：中国光刻机迎重大突破