中国14纳米光刻机量产,中国现在能做几nm光刻机

中国14纳米光刻机量产,中国现在能做几nm光刻机

,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的14纳米先进工艺：中芯国际(688981.SH)：公司早在2019年就已经实现14纳米芯片工艺风险量产，目前已经实现大规模量产，而且良品率已经达到国际先进水平。90纳米光刻机：上海电气(6017

2022年交付第一台28nm光刻机，而根据环球网报道来看，28纳米将是100%国产芯片的新起点，和国产14纳米芯片将分别有望在今年和明年实现量产，而中国电子信息产业发展现在这款光刻机，经过了制造工艺的提升之后，还能实现生产加工7纳米芯片的制程精度，相比EUV光刻机，精度的要求还要更高，甚至要到0.1纳米的精度。现在我国的光刻机建造技术，已经

28纳米浸润式光刻机可谓先进光刻机的重要门槛，从28纳米到7纳米工艺都可以浸润式光刻机生产，技术基本是相通的，28纳米浸润式光刻机投产，接下来解决14纳米光刻机、7纳米光刻机都将加快官方公布的数据是国产光刻机可实现90nm芯片量产，但并不意味着更先进的技术没有开展研究。上海微电子是负责设计，集成光刻机量产的厂商，曾设定在2020年12月份验收193nm ArF浸没式DUV

(｀▽′) 另外，14nm能量产之后，7nm芯片的量产也不远了。众所周知，DUV光刻机是生产14nm工艺芯片不可或缺的关键设备，而浸润式DUV光刻机经过多次曝光后也能达到7nm工艺，虽然会导致成本更高、良品率难以控上海方面透露，上海企业已经实现了90nm光刻机突破，14nm芯片量产，在5nm刻蚀机、国产CPU、12英寸大硅片、5G芯片等实现突破。并已形成2500亿元的集成电路规模，占全国25%。这些成绩

据《IT时报》近期报道，中芯国际作为国内唯一能够提供14纳米制程的晶圆代工企业，成为“最强备胎”，目前华为已有产品芯片转由中芯国际代工。实地探访发现上海中芯国际的14nm芯导读：国产芯片在传好消息，14nm芯片工艺量产，高端光刻机国产化指日可待。文|知道科技各位读者，大家好，欢迎收看由知道科技提供的资讯。中国目前拥有着庞大的半导体市场，仅201