氢氟酸处理工艺,用完的氢氟酸如何处理

氢氟酸处理工艺,用完的氢氟酸如何处理

˙ω˙ 集成电路制造行业在硅片清洗、刻蚀和去胶时，需要使用氟氢酸来除去硅片表面的氧化物，同时也会排放出氢氟酸废气，需要经过洗涤塔废气处理设备净化后达标排放。氢氟酸废气处理工艺氢中国用氢氟酸做玻璃蚀刻中大型企业有十几家，光伏行业几百家，金属表面处理大型企业十几家，每年产生废弃有机氟残液约15000 吨，氢氟酸含量平均约4.5%,对环境造成了破坏，对资

本工艺是将无水氢氟酸由储槽输送至计量槽后，经粗过滤去除夹杂的不纯物，再由塔节上方入料进入精馏塔，经过精馏分离去除无水氢氟酸中的高、低不同沸点不纯物，并以多套精馏塔串联操作，以1、电子级氢氟酸工艺流程(1)化学预处理无水氟化氢通过负压吸料进入除砷装置，因AHF含有与其沸点较为接近的AsF3,通过投加高锰酸钾溶液(氧化剂)进行化学预处理，将AsF3氧化成A

8. 未被吸收的气体进入尾气塔，洗掉其中的大部分酸性气体后，未被吸收的气体排空。尾气塔的洗涤液和地面冲洗酸性水送至废液处理装置，处理后的合格污水排入排水系常规的化学清洗对硅酸盐垢基本无效，而氢氟酸可以有效地清洗硅酸盐结垢，即使在低温、低浓度下，氢氟酸对硅酸盐垢也有较好的溶解力。可采用0.1%的hf+0.4%hci混合进行化学清洗，或采用0.1%naf+0.4%hci

一种氢氟酸废水的处理方法，包括如下步骤：在容器中加入氢氟酸废水的原液，并在氢氟酸废水的原液中加入沉淀剂，直至氢氟酸废水的pH值为11～12,取上层液，其中，沉淀蒸汽的液体源可以有利地设置在紧邻晶片处理表面下方的槽中，或者设置在邻近晶片的环形槽中。这些工艺提供了良好均匀性和优异颗粒计数性能的高速蚀刻。使用蚀刻

主流程也以除氟和pH调整为主线。二、氢氟酸废液处理工艺：1、含氟废水处理系统：包含高氟废水预处理系统和低氟废水处理系统。项目蚀刻槽定期倒槽产生的高浓度氟废水含有氢氟酸、硫酸、盐酸等物质，多年来，日本90% 以上的氢氟酸材料(用于半导体蚀刻工艺)从中国进口。现在，当地的空调巨头大金(Daikin)工业希望通过以墨西哥原材料为后盾的内部芯片制造能力来改