中国光刻机真实水平,为什么只有荷兰能造光刻机

中国光刻机真实水平,为什么只有荷兰能造光刻机

1982年，中科院109厂研制出第一台KHA-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。1985年，我国新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近美国光刻机巨头GCA公司4更加让人心灰意冷的是，国内院士吴汉明表示：我们一个国家、一个地区钻研光刻机，是难以实现的，与其做这些无用功，还不如在55nm低端芯片上多下功夫。北大教授给出答案很显然，我国

而中国在光刻机市场上的存在，仍仅限于普适技术水平较低的数字光刻机和光刻机设备周边的相关配套技术。尽管如此，中国在光刻机技术领域的发展势头却丝毫不逊色于国际上的同行。特别我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平。但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作

全球能够独立生产k-line及以上光刻机的国家很少，需要的只能进口，中国的光刻机制造行业虽然还未达到荷兰、日本的水准但已经超过了绝大部分的国家，至少KrF领域能靠上海微电子解决目前我国能100%确定，我们在2020年已经搞定了180nm制程光刻机的全国产化，实现了完全自主可控。而全球首次实现180nm精度芯片是在1999年，所以直观来说中国光刻机确实落后了国外20年

没有荷兰的EUV光刻机设备，中国也无法打造出更加高端的芯片，也就是说我们只是在这方面被卡住脖子，但是实际上正如前面所说，中国的整体技术已经达到了国际先进水平，比如美国没有荷所以当前国内明面上的光刻机水平就是90nm，就算多重曝光，最多也就是28nm，考虑到ASML的DUV光刻机是不受限的，估计没谁买90nm的，来生产28nm。所以，差距真的是非常非常大。事实