中国光刻机的不足,中国问题

中国光刻机的不足,中国问题

五年内必能突破5nm光刻机光刻机已成为国家最紧迫的卡脖子设备，一旦国家不计成本的投入，加之国内代工企业的成长，5年内我们必能拥有可用的5纳米光刻机。以前中网传中国光刻机研发失败，外媒称美国无法控制中方进步，真相曝光#中国光刻机#外国媒体#自主研发#半导体产业1.7w 2173 912 发布时间：2022-10-08 20:30 全部评论

ˇ＾ˇ 然后再从下游客户，将客户掌握在自己手中，让其它光刻机厂商不敢轻易生产EUV光刻机，因为去掉这些主要客户后，市场需求就不太够了，就算其它厂商最终生产EUV光刻机中国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），它可以做到的最精密的加工制程是90nm，相当于

在光刻机领域，内地企业一直无法购买到最先进的EUV设备。原因主要在以下几点：1、ASML产能不足EUV光刻机技术含量极高，而ASML并没有掌握太多的关键技术，而是将离子注入机与光刻机、刻蚀机和镀膜机并称芯片制造四大核心装备，而低能大束流离子注入机更是半导体制造中最为核心设备之一，其开发难度仅次于光刻机。凯世通是国内全领域离子注入机公

制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。在“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，加工精度是90纳米。这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外已经做到了十因此，国内要想真正实现芯片自主化和自给自足的目标，光刻机是一项必须要攻克的技术，否则国产芯片将始终难以崛起。但无奈的是，光刻机的难度非同小可，强如美国都无法造出来完整的光刻

╯＾╰ 光刻机做出来得先从试验机经过一代一代的改良变成量产机，这些步骤不可能秘密进行，因为都是需要与产线相结合的试生产，才能调适与改进，没有可能忽然宣布我们有一台量产没毛病的光刻有消息称，中国最强的光刻机生产商上海微电子已经攻破了28nm光刻机，虽然比起荷兰ASML高端光刻机，我们还有很大的差距。但没有28nm,就不可能有后开的5nm。最重要的是，它是我们完全独立